服务
科学研究与试验开发
Pinch 公司在真空和等离子体技术领域开展科学研究，并进行研发活动以开发用于产生等离子体和离子束的仪器和设备，以及用于对等离子体对象进行全面分析的设备。
等离子体技术是知识密集型产业的典范，没有它就无法想象现代高科技产业，但它也给工业带来了许多极其复杂的任务，这些任务的解决需要先进的知识、丰富的经验、综合的研究和严谨的分析。Pinch 是一家由科学家、工程师和专家组成的团队创建的公司，该团队在研究低温等离子体物理和执行高度复杂的研发任务方面拥有丰富的经验。
我们在众多领域开展研究，包括：
- 在直流（DC）、中频（MF）脉冲模式，以及射频（RF）和高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS、DOMS）模式下磁控沉积导电和电介质涂层。
- 等离子体浸没离子注入（PIII）。等离子体渗氮。金属表面硬化。
- 等离子体中粒子能量和质量分布的研究，控制和管理到产品表面的离子通量。
- 材料表面的离子改性，形成纳米、微米和宏观轮廓。
我们将帮助实现生长薄膜的化学计量组成，提高其附着力和硬度，优化复杂形状零件上的涂层沉积，为工艺室中的磁控溅射源选择最合适的位置，以最大化薄膜沉积速率并提高其性能的均匀性。通常，为了达到预期的结果，市场上提供的现成解决方案是不够的。Pinch 专注于非标准任务，并将研发成果转化为实际设备。
我们开展了广泛的研发工作，主要开发：
- 离子源和等离子体源；
- 真空系统；
- 研究设施用样品架（可附加加热/冷却功能）；
- 高真空和超高真空自动化运动导入器；
- 粒子能量和质量分布分析仪；
- 各种类型的探针系统（朗缪尔探针、双探针、三探针、马赫探针）；
- 用于独特非标准任务的诊断工具。