磁控管

用于薄膜涂层的溅射源。

Magneto 系列磁控管

Magneto 系列磁控溅射源设计用于沉积高质量的金属、半导体和电介质涂层。借助滑动真空密封件和可倾斜的阴极组件（可选），Magneto 系列磁控管能够调节真空室内的方向和位置。凭借其灵活的设置和易操作性，该系列磁控溅射系统非常适合研发部门和科学实验室。

MagFix

紧凑型磁控溅射源，采用快速更换靶材设计，适用于科研和工业设备中的薄膜沉积。 磁性固定结构可快速更换靶材及其背板。可拆卸组件可整体取出，并替换为另一套预先安装好靶材的组件。该结构可简化实验和工艺开发过程中不同材料之间的切换。 MagFix 可与直流（DC）、中频（MF）、射频（RF）及脉冲电源配合工作，包括 HiPIMS、MPPS 和 DOMS 模式。