磁控管

用于薄膜涂层的溅射源。

Magneto 系列磁控溅射源设计用于沉积高质量的金属、半导体和电介质涂层。借助滑动真空密封件和可倾斜的阴极组件（可选），Magneto 系列磁控管能够调节真空室内的方向和位置。凭借其灵活的设置和易操作性，该系列磁控溅射系统非常适合研发部门和科学实验室。

Grinch 系列磁控溅射源设计用于沉积高质量的金属、半导体和电介质涂层。该系列磁控管固定在安装法兰的单一位置，不占用真空室的有效体积，因此非常适合在小型系统中使用。