Magneto 系列磁控管

Magneto 系列磁控溅射源设计用于沉积高质量的金属、半导体和电介质涂层。借助滑动真空密封件和可倾斜的阴极组件(可选),Magneto 系列磁控管能够调节真空室内的方向和位置。凭借其灵活的设置和易操作性,该系列磁控溅射系统非常适合研发部门和科学实验室。

技术参数

Диаметр катода2"–6"
Режимы питанияDC / MF / RF / HiPIMS
ОхлаждениеВодяное
Регулировка положенияСкользящее уплотнение, наклон катода (опция)