
Magneto 系列磁控管
Magneto 系列磁控溅射源设计用于沉积高质量的金属、半导体和电介质涂层。借助滑动真空密封件和可倾斜的阴极组件(可选),Magneto 系列磁控管能够调节真空室内的方向和位置。凭借其灵活的设置和易操作性,该系列磁控溅射系统非常适合研发部门和科学实验室。
技术参数
| Диаметр катода | 2"–6" |
| Режимы питания | DC / MF / RF / HiPIMS |
| Охлаждение | Водяное |
| Регулировка положения | Скользящее уплотнение, наклон катода (опция) |