LMS 磁控溅射源

LMS 是一款可实现高沉积速率的磁控溅射源，适用于对生产效率或涂层厚度有较高要求的镀膜工艺。 磁控放电等离子体将隔热靶材加热至发生蒸发或升华的温度，从而大幅提高薄膜沉积速率。蒸发材料的沉积可形成几乎无内应力的薄膜，并制备厚度达数百微米的高质量涂层。 当靶材原子通量较高时，放电可在靶材蒸气中维持。因此，设备可在较低工作气体压力下运行，或无需额外通入工作气体，有助于提高薄膜纯度。 在较低功率密度下，可在靶材受热但不熔化的条件下进行沉积，该模式适用于反应性沉积工艺。 LMS 可与直流（DC）、中频（MF）及脉冲电源配合工作，包括 HiPIMS 模式。