Магнетрон Spinner

Магнетрон Spinner с вращающейся магнитной системой предназначен для нанесения тонкоплёночных покрытий в процессах, где критичны высокая однородность покрытия и большая скорость осаждения. Вращение магнитной системы обеспечивает более равномерное распределение зоны распыления по поверхности мишени и расширение зоны эрозии, что позволяет увеличить коэффициент использования материала мишени и повысить стабильность процесса нанесения покрытия. Вращающаяся магнитная система также позволяет уменьшить расстояние от мишени до подложки при сохранении однородности осаждения, повышая эффективность использования распылённого материала. Spinner рассчитан на мишень диаметром 202 ± 1 мм и ориентирован прежде всего на задачи микроэлектроники, а также исследовательские и технологические процессы, предъявляющие повышенные требования к равномерности покрытия.