Магнетрон LMS

LMS — магнетронный источник, обеспечивающий высокие скорости осаждения. Он предназначен для нанесения покрытий в процессах, где определяющим требованием является высокая производительность или большая толщина покрытия. Под действием плазмы магнетронного разряда теплоизолированная мишень нагревается до температуры, при которой происходит её испарение или сублимация. Это позволяет многократно повысить скорость осаждения плёнок. Осаждение испарённого материала позволяет формировать плёнки практически без внутренних напряжений и получать высококачественные покрытия толщиной до нескольких сотен микрометров. При высоком потоке атомов материала мишени разряд может поддерживаться в его парах. Это позволяет работать при пониженном давлении рабочего газа или вовсе без его дополнительного напуска, что способствует повышению чистоты плёнок. При малых плотностях мощности возможна работа в режимах осаждения с нагретой мишени без её расплавления, актуальных для реакционных процессов. LMS рассчитан на работу с источниками питания постоянного (DC), среднечастотного (MF) и импульсного тока, включая режим HiPIMS.